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六甲基二硅氮烷 六甲基二硅胺烷

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发布时间:2022-03-28

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六甲基二硅氮烷 999-97-3 六甲基二硅胺烷 半导体助剂 中文名称: 六甲基二硅氮烷 中文别名: 六甲基二硅亚胺; 1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷; 六甲基二硅胺烷; HMDS 英文名称: 1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazane CAS号: 999-97-3 EINECS号: 213-668-5 分子式: C6H19NSi2 分子量: 161.39 密度(25℃)g/cm3:0.770—0.780  折光率():1.408±0.002 六甲基二硅氮烷含量(%):≥99.0  六甲基二硅氧烷含量(%):≤0.7 三甲基硅醇含量%:≤ 0.3  闪点:27℃ 沸点:126℃ 色度:≤10 用途:特种有机合成。衍生物等合成过程中的甲硅烷基化。硅藻土、白炭黑、钛等粉末的表面处理。半导体工业中光致刻蚀剂的粘结助剂。

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